媒体关注｜一塔半导体脉冲激光退火设备获《安徽日报》报道

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【概要描述】

8月25日，安徽省主流媒体《安徽日报》刊发《从120℃到3400℃！解锁经开产业的奋进温度》专题报道，文中介绍了一塔半导体自主研发的激光退火设备，作为合肥经开区产业能级进阶的代表性成果。

以下是报道原文

激光退火设备是一塔半导体核心产品之一，可适配SiC、GaN等第三代半导体材料退火工艺，在功率芯片背面退火、金属合金化等关键制程中发挥着重要作用。该设备已实现全自主研发与产业化验证，累计申请专利10余项，覆盖激光光束整形、精密运动平台及智能控制系统等核心环节，设备性能达到业内先进水平。

ETA-Semitech PLA脉冲激光退火设备

作为合肥经开区重点培育的半导体装备企业，一塔半导体将持续深耕高端半导体装备制造，以科技创新驱动产业发展，为区域产业能级跃升贡献“一塔温度”。

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