ETA-Semitech® 脉冲激光退火系统

所属分类: 脉冲激光退火

应用于：离子掺杂激活、背面退火。适用于：硅基IGBT离子掺杂激活、碳化硅背面电极镀膜退火。

技术优势

一、最高可达12WPH@6inch
控制系统延时为行业标准0.6%
加工效率是同类型2倍+

二、能量转换效率 >91%
激光能量密度≤0.01J/cm2
位置误差≤1μm
晶圆定位视觉校准技术

三、良率达到 99%

交付产品经过产线反复测试

四、稳定控制
精密光学系统
高精度隔振光学运动机台
关键词:
- 半导体
- 欧姆接触
- 过渡金属