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EFEM在半导体先进工艺中的核心作用与国产化崛起

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2025.09.25

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瑶光半导体：以激光退火技术赋能第三代半导体产业发展

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2025.07.09

瑶光第3代激光退火产品成功研发后，将实现生产效率的大幅跃升。

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技术前沿｜MOCVD 外延生长技术：原理、挑战与未来展望

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2025.06.18

ETA-Semitech®MOCVD外延系统能有效解决温度均匀性、掺杂均匀性、MO源利用率等问题

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技术前沿｜氮化镓外延技术详解：挑战、解决方案与未来展望

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2025.06.10

ETA-Semitech在GaN外延领域积累了丰富的技术经验

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技术前沿｜浅谈国产8英寸SiC外延技术

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2025.05.26

ETA-Semitech助力国产SiC外延片加速量产，赋能中国SiC产业在全球半导体产业中的竞争优势！

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技术前沿｜一文解读氧化镓外延技术

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2025.04.17

ETA-Semitech氧化镓外延设备具备高品质、高效率、低成本、高智能等优势

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