ETA-Semitech® MOCVD外延系统 ES620&ES621-AsP双腔

所属分类: MOCVD 外延系统

本系列设备专为AsP化合物半导体外延规模化量产设计，可广泛用于光通信激光芯片、MicroLED、射频微电子、3D传感&车载光电等领域

技术优势

一、高精度温控
闭环精准控温，稳定腔体内生长温场

二、2+2喷淋头设计
优化布气,改善片内均匀性，抑制预反应、提高源效比

三、符合半导体标准的软件控制系统

符合SEMI S2安全规范，原生支持SECS-GEM协议

四、C2C全自动传片
全自动盒到盒晶圆传输系统，减少引入颗粒缺陷

五、Cl₂原位清洁
内置原位蚀刻，延长设备维护周期，提高稼动

产品特点

1. 兼容 Fab工厂AMHS自动天车物料系统，适配全自动产线

2. 兼容大容量行星腔：6英寸9片/腔、4英寸14片/腔双构型

3. 一拖二双腔并行拓扑，提升设备吞吐能力，单腔维护不中断另一腔生产

4. 双腔完全独立工艺控制，支持差异化配方，生产调度灵活

5. 共享公用机柜，优化设备Footprint，降低厂房基建与运营成本
关键词:
- 半导体
- 欧姆接触
- 过渡金属